●適合チューブ外径D(mm)：10×10●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●使用流体：空気、水●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

商品コード：

2500201689380

●適合チューブ外径D(mm)：10×10×10●使用流体：空気、水●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

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2500201689434

●適合チューブ外径D(mm)：12●適合継手サイズd(mm)：12●使用流体：空気、水●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

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2500201689748

●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●使用流体：空気、水●適合チューブ外径D(mm)：12×12●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

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2500201689779

●適合チューブ外径D(mm)：12×12×12●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●使用流体：空気、水●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

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2500201689823

●適合チューブ外径D(mm)：16×16●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●使用流体：空気、水●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

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2500201690102

●適合継手サイズd(mm)：4●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●使用流体：空気、水●適合チューブ外径D(mm)：4●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

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2500201690737

●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●使用流体：空気、水●適合チューブ外径D(mm)：4×4●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

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2500201690775

●使用圧力：1MPa(空気)、0.3MPa(水)●使用流体：空気、水●適合チューブ外径D(mm)：4×4×4●流体温度(℃)：-5～60℃(空気)、5～40℃(水)●本体:難燃性ポリブチレンテレフタレート(PBT)●シールゴム:ニトリルゴム(NBR)

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2500201690829

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：5●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922310

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：6●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922327

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：8●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922334

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：10●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922341

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：12●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922358

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：14●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922365

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：15●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922372

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：16●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922389

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：18●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922396

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：20●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922402

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：25●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922419

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M3●寸法(mm)L：30●ねじピッチ(mm)：0.5●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：3.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922426

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：4●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922433

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：5●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922440

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：6●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922457

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：8●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922464

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：10●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922471

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：12●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922488

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：14●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922495

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：15●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922501

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：16●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922518

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：18●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922525

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：20●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922532

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：22●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922549

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：25●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922556

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：30●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922563

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：35●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

商品コード：

2500200922570

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M4●寸法(mm)L：40●ねじピッチ(mm)：0.7●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：4.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922587

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：8●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922594

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：10●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922600

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：12●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922617

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：14●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922624

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：15●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922631

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：16●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922648

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：20●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922655

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：25●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922662

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：30●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922679

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：35●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922686

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：40●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922693

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M5●寸法(mm)L：45●ねじピッチ(mm)：0.8●貫通穴(mm)：1.5●六角部高さ(mm)：5.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922709

●ねじ穴の底に溜まった空気やガスを排出するための貫通穴が開いています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などで使用されています。●真空装置、真空容器、半導体製造装置、電子顕微鏡などでの使用に。●寸法(mm)d：M6●寸法(mm)L：8●ねじピッチ(mm)：1●貫通穴(mm)：2.0●六角部高さ(mm)：6.0●ステンレス(SUS303、SUS304、SUSXM7等)

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2500200922716